結(jié)垢主要分為兩種類型：
（1）濕-干垢：
多數(shù)除霧器結(jié)垢都是這種類型。因煙氣攜帶漿液的霧滴被除霧器折板捕捉后，在環(huán)境溫度,粘性力和重力的作用下，固體物質(zhì)與水分逐漸分離，堆積形成結(jié)垢。這類垢較為松軟，通過簡單的機械清理以及水沖洗方式即可得到清除。
（2）結(jié)晶垢：
少數(shù)情況下，由于霧滴中含有少量亞硫酸鈣和未反應(yīng)完全的石灰石，會繼續(xù)進行與塔內(nèi)類似的各種化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)物也會粘結(jié)在除霧器表面造成結(jié)垢，這些垢較為堅硬，形成后不易沖洗。
2.防止除霧器堵塞的措施
由于除霧器的功能就是捕捉煙氣攜帶的霧滴，因此形成濕-干類型的垢屬于正常現(xiàn)象，脫硫系統(tǒng)都設(shè)計有沖洗裝置將沉積的石膏垢定期及時沖洗掉，防止其堆積。
正常運行期間，應(yīng)按照設(shè)備廠家要求的沖洗水流量和沖洗頻率進行沖洗，可防止結(jié)垢物堆積，同時防止發(fā)生堵塞和坍塌事故。
應(yīng)重點進行以下工作：
（1）定期進行沖洗，通常2小時一次，低負(fù)荷可適當(dāng)延長確保沖洗壓力，要求沖洗時噴嘴處壓力0.25-0.3MPa；
（2）定期檢查沖洗閥門，防止閥門內(nèi)漏，確保除霧器壓力測量準(zhǔn)確，建議采用環(huán)形取壓，同時帶吹掃。只有準(zhǔn)確的壓力測量，才能正確的進行監(jiān)控；
（3）嚴(yán)格控制吸收塔漿液濃度（小于20wt%）；
（4）避免長期高PH運行，另外PH波動不能太劇烈。
三、石膏品質(zhì)差
1.影響石膏品質(zhì)的因素
石膏品質(zhì)差主要表現(xiàn)在以下幾方面：石膏含水率高(大于10%)；石膏純度低；石膏中CaCO3\CaSO3超標(biāo)；石膏中的CL-、可溶性鹽（如鎂鹽等）含量高等。水泥廠對石膏水分、純度、CL要求較高，CL高則影響水泥的粘性。
在石膏的生成過程中，如果工藝條件控制不好，往往會生成層狀或針狀晶體，尤其是針狀晶體，形成的石膏顆粒小，粘性大，難以脫水，如CaSO3·1/2H2O晶體。
而理想的石膏晶體（CaSO4·2H2O）應(yīng)是短柱狀，比前者顆粒大，易于脫水。所以，控制好吸收塔內(nèi)化學(xué)反應(yīng)條件和結(jié)晶條件，使之生成粗顆粒和短柱狀的石膏晶體，同時調(diào)整好系統(tǒng)設(shè)備的運行狀態(tài)是石膏正常脫水的保證。
（1）吸收塔內(nèi)漿液成分因素
石膏來源自吸收塔內(nèi)漿液，其品質(zhì)的好壞，根本上由吸收塔內(nèi)反應(yīng)環(huán)境及反應(yīng)物質(zhì)決定。常見影響石膏含水率的因素：
漿液中雜質(zhì)成分過高：飛灰、CaSO3、CaCO3、 Cl-、Mg2+、含量高，前三者本身顆粒較小不易脫水；而過多的Mg2+則影響石膏結(jié)晶的形狀，因增加了漿液的粘度而抑制顆粒物的沉淀過程；
Cl-過高也會影響石膏的結(jié)晶。通常吸收塔內(nèi)要求Mg2+＜5000ppm， Cl- ＜10000ppm，否則脫水就有影響。
石膏在塔內(nèi)停留時間短，結(jié)晶時間不足，其顆粒小；
漿液過稀，石膏過飽和度不足，漿液濃度低于10wt%。
（2）設(shè)備因素
旋流器分離效果差，造成脫水機上漿液濃度過低；
真空度過低：一般在0.04~0.06MPa之間最為合適，過高會造成真空泵過載；過低的原因可能是真空系統(tǒng)泄漏、濾餅厚度不足(20~40mm之間)、濾布破損等；
小顆粒堵塞濾布或者濾布沖洗不足；
真空泵入口堵塞、真空槽與皮帶孔相對位置偏移，皮帶上的真空度下降。